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磁性拓撲半金屬材料的結構圖及其拓撲半金屬復合材料
發布時間:2020-07-06     作者:wyf   分享到:

磁性拓撲半金屬材料的結構圖及其拓撲半金屬復合材料

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磁性拓撲半金屬是一種破壞時間反演對稱性,并且在費米能級附近存在孤立的簡并點或簡并線的新型拓撲量子材料,其表面具有自旋極化的費米弧或鼓膜態等拓撲穩定的邊界態

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磁性拓撲半金屬材料的晶體結構

該材料屬于新型的拓撲材料,其獨特的反常霍爾效應、反常能斯特效應(Nernst effect)以及拓撲性質易受外磁場調控等特性,具有類似于基本粒子的低能激發態,在各個學科行業領域應用具有重要的影響。

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NdSb的高場磁化率、磁阻測量(上圖)與負磁阻測量(下圖)(上左圖WM2提供高場25T,上右圖WM1提供較高場38T

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DySb的高場磁阻測量與能帶計算結果(上左混合磁體提供高場38.7T)

產品列表:

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拓撲絕緣體(Bi0.5Sb0.5)2Te3薄膜

拓撲絕緣體Sb2Te3薄膜

Cr摻雜拓撲絕緣體Bi2Se3

Cu2Se為基底的納米拓撲絕緣體材料

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Cr摻雜Bi2Se3

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Cr0.1(Bi0.1Sb1-0.1)2-0.1Te3撲絕緣體量子阱薄膜的材料

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一維的拓撲絕緣體SSH模型拓撲

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Bi2Te3-Bi2Se3的異質結構

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Bi2Se3三角形的納米薄片

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