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銅摻雜二硫化錫納米片(Cu/SnS2)的實驗研究
發布時間:2021-05-26     作者:axc   分享到:

銅摻雜二硫化錫納米片(Cu/SnS2)的實驗研究

金屬硫化物在光學、電子和超導體方面有很廣泛的應用二硫化錫(SnS具有半導體特性,它的結構在二維和三維晶體之間,展示了強的各向異性和**的光學特性SnS2CdI2結構,寬帶能隙大約為2.35eV,可用作太陽能電池材料,也可應用于全息記錄系統和電轉換系統,最近又有人把它作為鋰離子電池的陽極材料此外我們發現經過Zn摻雜可明顯降低SnS2薄膜的電阻率

 在本實驗中,我們利用水熱法合成了系列Cu摻雜的SnS2樣品,對其形貌、結構及磁特性進行了研究Cu是一種非磁性元素,利用其摻雜可以在非磁性半導體SnS2中獲得本征的室溫鐵磁性,這將會為理解稀磁半導體磁性來源以及實現對其鐵磁性的控制產生極具指導性的意義

制備

1-xmolSnCl4·5H2O(x=0,0.01,0.025,0.05,0.07,0.10)4mol硫代乙酰胺(TAA)xmolCuCl2·2H2O在室溫條件下加入到30ml去離子水中,攪拌大約30分鐘,等混合均勻后再加入NaOH將溶液pH調至6.5,攪拌40min將溶液轉至50mL的聚四氟乙烯容器中,放入高壓反應釜中密封,放入烘箱中在200℃反應24h,等待反應釜自然冷卻至室溫將自然冷卻后的溶液轉入燒杯用去離子水反復沉淀、洗滌,至上層溶液清澈時,再放入

烘箱中,70℃下干燥12h,再自然冷卻至室溫,收集樣品根據加入二水氯化銅的量不,得到Sn1-xCuxS2(x=0,0.01,0.025,0.05,0.07,0.10)納米片

 

檢測

采用X射線衍射儀(XRD,X'PertPROPHILIPSwithCuKαradiation)對粉末樣品進行物相分析,利用高分辨透射電鏡(HRTEM,TecnaiTMG2F30,FEI,USA)觀察樣品的形貌,利用X射線光電子能譜(XPS,VGESCALAB210)分析樣品內元素及化合價態,利用振動樣品磁強(VSM)對樣品的磁特性進行了表征

 

結果與討論

1.XRD結果及分析

1所示為Cu摻雜SnS2納米片的XRD衍射圖譜,可以看到所有樣品的衍射峰都對應2H-型六角的SnS2(a=b=3.645?,c=5.901?,JCPDS89-2358)結構Cu摻雜量為10%,XRD的測試精度內沒有觀察到其他的雜相出現,Cu摻雜后樣品具有明顯的(001)取向從圖1b所示的(001)衍射峰的放大圖可以看到,隨著Cu摻雜量的增加,衍射峰逐漸向低角度偏移,這是由于Cu離子半徑大于Sn離子半徑而引起的(Sn4+~0.69?,Cu2+~0.73

?,此結果進一步表明樣品中的Cu離子摻雜到了SnS2的晶格中代替了Sn離子的位置

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2.TEM結果及分析

我們利用透射電鏡觀察了樣品的形貌,結果顯示所有的樣品都呈現出六角片狀結構2a給出了樣品Sn0.075Cu0.025S2TEM結果(b),(c)(d)所示的HRTEM結果可以看到樣品呈多晶結構,(d)圖所取得范圍內樣品沿著(101)取向生長

image.png

3.XPS結果及分析

利用XPS對樣品的化學組分進行了分析,結果表明所有的樣品都只是含有SnSCu這三種元素(純的SnS2中無Cu元素),其中CO元素來在于測試時樣品表面吸附的一些H2OCO23a給出了樣品Sn0.075Cu0.025S2XPS全譜圖,結果顯示在XPS的測試精度內沒有觀察到其他雜質元素出現另外,從元素的高分辨XPS譜圖結果可以得到:Sn3d3/2Sn3d5/2的結合能分別為495.0486.6eV,表明樣品中的Sn元素呈+4;S2p1/2

S2p3/2的結合能分別位于161.6160.6eV,表明其在樣品中為-2Cu元素的結合能位置**衛星峰的出現表明Cu離子以+2價摻雜到了SnS2的晶格中

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西安齊岳生物科技有限公司將從零維/一維/二維/三維四個分類來提供幾十個產品分類和幾千種納米材料產品,材料的材質包含金屬納米材料和非金屬納米材料以及他們的氧化物或碳化物及復合定制材料等等,產品粒徑從5納米-2000納米均可選擇。

產品目錄:

稀土摻雜硼酸釔二維納米材料

稀土Ce3+對BN納米片結構的摻雜

磷烯/六角氮化硼(P/h-BN)異質結

鎢酸鉍修飾氮化硼納米片(Bi2O12W3/BN)

鎢(w)摻雜改性多孔石墨相氮化碳(g-c3n4)

石墨相氮化碳(g-C3N4)固載磷鎢酸(PTA)催化劑

烷基功能化氮化硼(BN)

透明質酸修飾氮化硼納米片(HA-hBN)

聚多巴胺修飾氮化硼納米片

銅—氮化硼復合材料Cu/BN

體相氮化碳(B-CN)和介孔石墨相氮化碳(mpg-CN)

陶瓷結合立方氮化硼(CBN)

碳納米管/氮化硼復合材料(CNT/CBN)

碳化硅改性多壁碳納米管(SiC/MWCNT)

碳化硅-氮化硼(SiC/CBN)陶瓷復合材料

碳摻雜石墨相氮化碳(g-C3N4)納米片

碳材料/g-C3N4異質結

碳/碳纖維-硅硼碳氮陶瓷復合材料

碳/碳-碳化硅-氮化硼復合摩擦材料

碳/氮化硼復合材料

鈦酸酯偶聯劑改性六方氮化硼(h-BN)

鈦酸鈷/石墨氮化碳復合材料(CoTiO3/g-C3N4)

羧基修飾六方氮化硼(hBN-COOH)

羧基修飾改性氮化硼(hBN-COOH)

羧基聚乙二醇包裹六方氮化硼(hBN-PEG-COOH)

羧基聚乙二醇包裹氮化硼納米材料hBN-PEG-COOH

羧基功能化g-C3N4氮化碳納米片

水溶性六方氮化硼納米片

雙馬來酰亞胺-三嗪樹脂(BT)改性氮化硼(BNOC)

雙金屬負載材料

石墨相氮化碳納米管CN-NTs

石墨相氮化碳/石墨烯(g-C3N4/rGO)復合光催化劑

石墨相氮化碳(g-C3N4)與Bi系化合物復合材料

石墨相氮化碳(g-C3N4)和鈦酸鉍復合材料

凹凸棒土基/石墨相氮化碳基雜化材料

石墨相氮化碳(g-C3N4)和凹凸棒土(凹土,ATP)雜化材料

氮摻雜碳包覆氮化釩一維復合材料(VN@C)

氮化釩(VN)薄膜

鈷摻雜氮化釩(Co-VN)納米球

立方相VN粉體

氮化釩/石墨烯納米復合材料(VN/GO)

氧化物歧化酶修飾氮化釩

透明質酸酶修飾氮化釩

阿隆-氮化釩(AlON-VN)耐火材料

花狀氮化釩(VN)

氧化釩(V2O5)制備了氮化釩(VN)納米材料

氮化釩/氮化鉻(VN/CrN)復合粉末

氮化釩/多孔蠶繭碳復合電極材料

聚乙烯吡咯烷酮(PVP)為軟模板制備的氮化釩-碳(VN-C)材料

聚苯胺/氮化鉻(PANI/CrN)納米復合材料

氮化釩/碳電極材料

阿隆-氮化釩(AlON-VN)復相陶瓷材料

碳纖維增強碳化硅(Cf/SiC)復合材料

鋁基碳化硅增強材料(A1/SiC)

脂質體包裹六方氮化硼納米片(hBN)

介孔石墨相氮化碳負載鈷(Co/mpg-C3N4)

原子摻雜六方氮化硼

原位修飾Ni2P納米晶催化劑提高g-C3N4催化劑

銀/石墨相氮化碳復合材料(Ag/g-C3N4)

釔硅氧氮-氮化硼陶瓷基復合材料(Y4Si2O7N2-BN)

乙酰丙酮氧釩絡合納米薄片石墨化氮化碳(VO@g-C3N4-T)

石墨相氮化碳/二硫化鉬(g-C3N4/MoS2)納米復合材料

一維氮化硼納米管BNNTs

葉酸修飾六方氮化硼(HBN-FA)

葉酸修飾石墨相氮化碳(g-C3N4)納米片

葉酸聚乙二醇包裹六方氮化硼(hBN-PEG-FA)

氧化鋁包覆六方氮化硼復合粉末

氧化鋯/石墨相氮化碳復合材料(ZrO2/g-C3N4)

亞穩態立方相氮化硼e-BN納米多晶

形貌改善,金屬/非金屬摻雜,以及異質結構建

酰基修飾六方氮化硼

纖鋅礦結構的氮化硼(w-BN)

稀土硅酸鹽改性氮化硼基復合材料


溫馨提示:西安齊岳生物科技有限公司供應的產品僅用于科研,不能用于其他用途


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