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非均相沉淀法制備TiN-AI2O3納米復合材料
發布時間:2021-03-23     作者:zl   分享到:

非均相沉淀法制備TiN-AI2O3納米復合材料

復合粉體的制備與表征

  采用非均相沉淀法制備了TiO2-a -Al2O3納米復合粉體,以此為原料采用原位氮化法制備了TiN- a-Al2O3納米復合粉體,再經熱壓燒結制備了TiN- a -Al2O3納米復合材料。整個制備過程如圖1所示。

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1.TiN-AlO3納米復合材料制備流程圖

  將上述得到的 TiN-a-Al2O3納米復合粉體在不同燒結溫度下,在High-Mutli-10000多功能爐中進行熱壓燒結,燒結壓力為30MPa,燒結保溫時間為60 min,制得納米TiN-Al2O3復合材料。

  從圖2中可以看到納米TiO2顆粒均勻的分布在a-AI2O3顆粒表面上,TiO2顆粒的粒徑約為20納米。由于在c-Al2O3粉體和鈦酸丁酯混合過程中,a-Al2O3粉體顆粒表面被鈦酸丁酯分子所覆蓋,當蒸餾水加入到α-Al2O3粉體和鈦酸丁酯混合漿料中時,鈦酸丁酯分子遇水發生水解,在a-Al2O3粉體顆粒表面生成納米TiO2顆粒。

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2.TiO2-a-A12O3納米復合粉體的TEM照片

西安齊岳生物科技有限公司提供各種多孔材料、石墨烯、鈣鈦礦、量子點、納米顆粒、空穴傳輸材料、納米晶、化學試劑、光電化學品、有機光電和半導體材料、材料中間體、酶制劑、酶底物、定制類納米管、定制氮化物等一系列產品。

齊岳供應產品:

玻璃基片表面磷酸基硅烷-氮化鈦復合薄膜    

離子鍍技術在金屬鈦表面鍍上一屬氮化鈦薄膜    

鈦/氮化鈦納米復合硬質薄膜    

Ti/TiCN/DLC復合膜層    

TiO2/SiO2復合薄膜    

氮化鈦基AlTiN和TiAlSiN超硬納米復合工具膜    

二硫化鉬氮化鈦復合薄膜    

層氮化鈦薄膜厚度增加,TiNx/SiO2/Ag/SiO2復合膜    

TiN/SiO2復合裝飾薄膜    

納米復合Ti-Si-N薄膜    

TiNx/SiO2/Ag/SiO2復合膜    

氮化鈦(TiN)引入ITO薄膜    

ITO-Ag復合薄膜    

nc—TiN/a—Si3N4納米復合薄膜    

TiO/TiN復合薄膜    

氮化鈦(TiNx)薄膜    

Si(111)基底上制備氮化鈦(TiNx)薄膜    

鋼基底上生成了金黃色氮化鈦(TiNx)膜    

TiNx/SiO2/Ag/SiO2復合膜    

石墨烯/氮化鈦(G/TiN)復合材料    

石墨烯/氮化鈦納米復合物    

Si—P(111)和Si—P(100)兩種不同Si片做基底制備TiNx薄膜    

立方氮化硼聚晶(PcBN)復合材料    

TiN/X多層結構薄膜    

TiNx/SiO2/Ag/SiO2復合膜    

zl 03.23

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