通過實踐經(jīng)驗和理論分析:影響VMCPP薄膜鋁層附著牢度的MCP薄膜生產(chǎn)工藝主要有:三層原料樹脂選擇、電暈處理效果和熟化條件。

三層原料樹脂選擇

三層原料樹脂選用不同,對鋁層的附著牢度有明顯影響。對于MCP薄膜的原料樹脂選用應(yīng)滿足低分子量物質(zhì)含量少、與鋁層結(jié)合好原則。低分子量物質(zhì)的含量不僅僅考慮鍍鋁層的樹脂,芯層和封合層的樹脂中含有的低分子量物質(zhì)也易到達鍍鋁層影響鍍鋁后鋁層附著牢度。在MCP薄膜卷取時,封合層面與鍍鋁層面是疊在一起,封合層的低分子量物質(zhì)析出后就會粘結(jié)到鍍鋁層面上。在鍍鋁層經(jīng)電暈處理后,容易讓芯層的低分子物質(zhì)通過來到鍍鋁層面。當(dāng)鍍鋁層面吸附了這些低分子量物質(zhì)后,高真空蒸鍍鋁時鋁蒸汽就很難與薄膜直接產(chǎn)生物理吸附。更難產(chǎn)生化學(xué)吸附。而只能附著在薄膜表面的低分子物質(zhì)層上,這就大大減弱了鋁層與薄膜間的附著牢度叫。不同的鍍鋁層和封合層PP原料樹脂配方,在同樣的流延加工和鍍鋁工藝條件下生產(chǎn)的VMPP薄膜鋁層附著力見表1。

供應(yīng)產(chǎn)品目錄：

硫化鉍銅(Cu3BiS3)

鈦鋁碳 Ti2AlC2薄膜

類金剛石碳(DLC)薄膜

三維納米碳薄膜

含氫非晶質(zhì)碳薄膜

含氫類鑽碳薄膜

基于碳納米材料的柔性透明導(dǎo)電薄膜

多晶型碳化矽薄膜

鉬鋁碳 Mo3AlC3薄膜

鈮鋁碳 Nb2AlC3薄膜

鈦鋁(鈮)氮/碳化物(TiAl(Nb)N/C)薄膜

鈮基超薄薄膜

離子束增強沉積鈮(鈦)薄膜

非晶鈮金屬氧化物薄膜

釩鋁碳 V2AlC3薄膜

超薄二氧化釩薄膜

晶圓級二氧化釩薄膜

高性能二氧化釩薄膜

三氧化二釩納米線薄膜

二氧化釩熱致變色薄膜

碳化釩薄膜

釩配合物(VO2(3-FL))和碳納米管復(fù)合薄膜

鉻鋁碳 Cr2AlC薄膜

沉積態(tài)貧鈾(DU)薄膜

鋁表面抗腐蝕多層有機復(fù)合薄膜

鋁銦鎵氮四元合金薄膜

壓鑄鋁合金表面耐蝕性銀基非晶薄膜

易降解的鍍鋁薄膜

頂層金屬薄膜

BOPP/VMCPP型鍍鋁復(fù)合薄膜

鋁合金表面(TixAly)N薄膜

鉻摻雜碳基薄膜

流延聚丙烯蒸鍍金屬薄膜（MCP）

二氧化硅薄膜

氧化鋁薄膜

以多孔碳為骨架的納米鋁熱薄膜

氧化銦錫鉭薄膜

鉭基介質(zhì)薄膜

鋁合金表面耐蝕潤滑一體化薄膜

非晶硅薄膜

多晶硅薄膜

含鉭薄膜

抗氧化鈾鉭薄膜

摻鉭鈾薄膜

氮化鉿薄膜

氧化鈮(鉭)薄膜

鉭硅介質(zhì)薄膜

鉭鋁合金薄膜

鈮鋁碳 Nb4AlC3薄膜

XRF聚酯薄膜

釩鋁碳 V4AlC3薄膜

鉬鎢硫MoWS2薄膜

二硫化鉬和硫化鉬鎢合金薄膜

含鉬或鎢薄膜

類石墨烯二硫化鎢薄膜

二硫化鉬MoS2薄膜

層狀二硫化鉬納米薄膜

稀土摻雜MoS2薄膜

MoS2/C復(fù)合薄膜

Au NPs薄膜

MoS2/a-C復(fù)合薄膜

磁控濺射MoS2+Sb2O3防冷焊薄膜

單層/少層/多層二硫化鉬納米復(fù)合薄膜

C/N共摻MoS2復(fù)合薄膜

層狀二硫化鉬/石墨烯(MoS2/Graphene)薄膜

非平衡磁控濺射離子鍍MoS2-Ti復(fù)合薄膜

自潤滑薄膜二硫化鉬(MoS2)和硬質(zhì)耐磨薄膜氮化鈦(TiN)

無機硫化物二硫化鉬(MoS2)固體潤滑薄膜

**的二硫化鉬MoS2納米多層薄膜

二硒化鉬MoSe2薄膜

二維二硒化鉬（MoSe2）薄膜

稀土摻雜MoSe2薄膜

銅銦鎵硒薄膜

單層/少層/多層硒化鉬(MoSe2)薄膜

銅鋅錫硫硒薄膜

yyp2021.3.22