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陶瓷靶材的種類制備方法及特性要求介紹-超高純度濺射靶材
發布時間:2021-01-22     作者:axc   分享到:

西安齊岳生物科技有限公司可提供各類化合物陶瓷靶材和鍍膜材料,產品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各類混合摻雜物,純度99.5%-99.999%,適合磁控濺射鍍、熱蒸鍍、電子束蒸鍍,產品廣泛應用于各類半導體行業、太陽能光伏光熱行業、建筑、裝飾、汽車、平面顯示、LCDLED、集成電路,元器件、磁記錄、裝飾、工具鍍膜、航空航天、軍工、科研等領域。

靶材是制備薄膜的主要材料之一,主要應用于集成電路、平板顯示、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等,對材料純度和穩定性要求高。陶瓷靶材作為非金屬薄膜產業發展的基礎材料,已得到空前的發展,靶材市場規模日益膨脹。

陶瓷靶材的種類:

    (1)按應用來分,可分為半導體關聯陶瓷靶材、顯示陶瓷靶材、磁記錄陶瓷靶材、光記錄陶瓷靶材、超導陶瓷靶材、巨磁電阻陶瓷靶材等。

    (2)按化學組成,可分為氧化物陶瓷靶材、硅化物陶瓷靶材、氮化物陶瓷靶材、氟化物陶瓷靶材和硫化物陶瓷靶材等。其中平面顯示ITO陶瓷靶材國內已廣泛生產應用。高介電絕緣膜用陶瓷靶材和巨磁電阻陶瓷靶材具有廣闊的應用前景。

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濺射陶瓷靶材的制備方法:常用的成型方法有干壓成型、冷等靜壓成型等。冷等靜壓成型由于具有坯體密度高而且均勻,磨具制作方便,成本較低等優點,故而成為常用的成型方法。陶瓷靶材的燒結常采用常壓燒結、熱壓燒結及氣氛燒結等方法。


 陶瓷靶材的特性要求:

    (1)純度:陶瓷靶材的純度對濺射薄膜的性能影響很大,純度越高,濺射薄膜的均勻性和批量產品的質量的一致性越好。

(2)密度:為了減少陶瓷靶材的氣孔,提高薄膜性能,要求濺射陶瓷靶材具有高密度。靶材越密實,濺射顆粒的密度月底,放電現場就越弱,薄膜的性能也越好。

    (3)成分與結構均勻性:為保證濺射薄膜均勻,尤特在復雜的大面積鍍膜應用中,必須做到靶材成分與結構均勻性好。

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西安齊岳生物科技有限公司可根據客戶要求定制各種金屬靶材,多種形態(平面靶、多弧靶、旋轉靶及其它異形靶材),純度,包裝從克至噸級的高純金屬單質。

以下是客戶經常購買的陶瓷濺射靶材產品目錄

硫化鎘(CdS)陶瓷濺射靶材

硫化鐵(FeS)陶瓷濺射靶材

硫化錳(MnS)陶瓷濺射靶材

硫化鉭(TaS)陶瓷濺射靶材

硫化鎂(MgS)陶瓷濺射靶材

硫化銅(CuS)陶瓷濺射靶材

硫化鉛(PbS)陶瓷濺射靶材

硫化鈮(NbS)陶瓷濺射靶材

硫化鎢(WS2)陶瓷濺射靶材

硫化銻(Sb2S3)陶瓷濺射靶材

硫化鈰(Ce2S3)陶瓷濺射靶材

硫化鉬(MoS2)陶瓷濺射靶材

硫化銦(In2S3)陶瓷濺射靶材

硫化鋅(ZnS)陶瓷濺射靶材

氧化鋁(Al2O3)陶瓷濺射靶材

四氧化三鐵Fe3O4陶瓷濺射靶材

鎳酸鑭(LaNiO3)陶瓷濺射靶材

氧化鈧(Sc2O3)陶瓷濺射靶材

氧化鋅鋁(AZO)陶瓷濺射靶材

氧化錫氟(FTO)陶瓷濺射靶材

鐵酸鑭(LaFeO3)陶瓷濺射靶材

鈦酸鍶(SrTiO3)陶瓷濺射靶材

氧化錫銻(ATO)陶瓷濺射靶材

氧化鎵(Ga2O3)陶瓷濺射靶材

錳酸鑭(LaMnO3)陶瓷濺射靶材

釕酸鍶(SrRuO3)陶瓷濺射靶材

氧化鉍(Bi2O3)陶瓷濺射靶材

氧化鎵鋅(GZO)陶瓷濺射靶材

氧化鎂(MgO)陶瓷濺射靶材

錳酸鍶(SrMnO3)陶瓷濺射靶材

鈦酸鉍(BiTiO3)陶瓷濺射靶材

氧化釓(Gd2O3)陶瓷濺射靶材

氧化鉬(MoO3)陶瓷濺射靶材

二氧化鈦(TiO2)陶瓷濺射靶材

鈦酸鋇(BaTiO3)陶瓷濺射靶材

二氧化鉿(HfO2)陶瓷濺射靶材

氧化鈮(Nb2Ox)陶瓷濺射靶材

五氧化三鈦Ti3O5陶瓷濺射靶材

氧化鈰(CeO2)陶瓷濺射靶材

氧化鈥(Ho2O3)陶瓷濺射靶材

氧化鎳(NiO)陶瓷濺射靶材

氧化鉭(Ta2O5)陶瓷濺射靶材

溫馨提示:靶材形狀:板材,圓片,矩形,方形,圓環,圓棒,臺階圓片,臺階矩形,三角形,管狀靶,套靶等或按客戶要求訂做,可根據客戶提供的圖紙要求加工. 并可以為客戶提供部分靶材的定制服務.西安齊岳生物提供的所有產品僅用于科研,axc.2021.01.21


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