三維厚膠/電子束光刻膠/薄膠/Lift off光刻膠/光刻膠紫外正性光刻膠(齊岳定制)
產品 | 型號 | 光源 | 類型 | 分辨率 | 厚度(um) | 適用范圍 |
厚膠 Thick Resist | SU-8 GM10xx系列 | g/h/i-Line | 負性 | 0.1um | 0.1-200 | 具有較大的高寬比,透明度高,垂直度**。 |
SU-8 Microchem | g/h/i-Line | 負性 | 0.5um | 0.5-650 | 具有較大的高寬比,透明度高,垂直度**。 | |
g/h/i-Line | 正性 | 1um | 1—30 | 可用于選擇性電鍍電鍍,深硅刻蝕等工藝。 | ||
NR26-25000P | g/h/i-Line | 負性 | 20-130 | 厚度大,相對容易去膠。 | ||
電子束光刻膠 | 型號 | 光源 | 類型 | 分辨率 | 厚度(um) | 適用范圍 |
SU-8 GM1010 | 電子束 | 負性 | 100nm | 0.1-0.2 | 可用于做高寬比較大的納米結構。 | |
HSQ | 電子束 | 負性 | 6nm | 30nm~180nm | 分辨率較好的光刻膠,抗刻蝕。 | |
XR-1541-002/004/006 | ||||||
HSQ Fox-15/16 | 電子束 | 負性 | 100nm | 350nm~810nm | 分辨率較好的光刻膠,抗刻蝕。 | |
PMMA(國產) | 電子束 | 正性 | \ | \ | 高分辨率,適用于各種電子束光刻工藝,較常用的電子束光刻正膠。 | |
PMMA(進口) | 電子束 | 正性 | \ | \ | MicroChem,各種分子量,適用于各種電子束光刻工藝,較常用的電子束光刻正膠。 | |
薄膠 | 型號 | 光源 | 類型 | 分辨率 | 厚度(um) | 適用范圍 |
S18xx系列 | g-Line | 正性 | 0.5um | 0.4-3.5 | 較常用的薄光刻膠,分辨率高,穩定可靠。 | |
SPR955系列 | i-Line | 正性 | 0.35um | 0.7-1.6 | 進口高分辨率(0.35um)光刻膠,穩定可靠。 | |
BCI-3511 | i-Line | 正性 | 0.35um | 0.5-2 | 國產0.35um光刻膠,已經在量產單位規模使用。 | |
NRD6015 | 248nm | 負性 | 0.2um | 0.7-1.3 | 國產深紫外光刻膠,已經在量產單位規模使用。 | |
Lift off光刻膠 | 型號 | 光源 | 類型 | 分辨率 | 厚度(μm) | 適用范圍 |
KXN5735-LO | g/h/i-Line | 負性 | 4μm | 2.2-5.2 | 負性光刻膠;倒角65-80°,使用普通正膠顯影液顯影。 | |
LOL2000/3000 | g/h/i-Line | / | NA | 130nm-300nm | 非感光性樹脂,可以被顯影液溶解,作為lift off雙層膠工藝中底層膠使用。 | |
ROL-7133 | g/h/i-Line | / | 4um | 2.8-4 | 負性光刻膠,倒角75~80°,使用普通正膠顯影液。 | |
光刻膠配套試劑 | 品名 | 主要成分 | 包裝 | 應用 | / | / |
正膠顯影液 | TMAH 2.38% | 4LR/PC | 正膠顯影液 | / | / | |
正膠稀釋劑 | PGMEA | 4LR/PC | 稀釋劑 | / | / | |
SU8 顯影液 | PGMEA | 4L/PC | 顯影SU8光刻膠 | / | / | |
RD-HMDS | HMDS | 500ml/PC | 增粘劑 | / | / | |
OMNICOAT | 見MSDS | 500ml/PC | SU-8增粘劑 | / | / |
光刻膠——高精度光刻的關鍵
在半導體制造領域,上游微電子材料和設備是支撐該行業的關鍵部分。上游微電子材料包括半導體制造過 程中用到的所有化學材料,包括硅片、光刻膠及輔助材料、光掩模、CMP 拋光材料、工藝化學品、濺射靶材、 特種氣體等。其中,光刻膠是占據**重要地位的關鍵原材料。
光刻是將電路圖形由掩膜版轉移到硅片上,為后續刻蝕工藝做準備的過程。光刻是 IC 制造過程中耗時較長、 難度較大的工藝之一,耗時占 IC 制造 50%,成本占 IC 制造 1/3。在一次芯片制造中,往往要對硅片進行上十次 光刻,其主要流程為清洗、涂膠、前烘、對準、曝光、后烘、顯影、刻蝕、光刻膠剝離、離子注入等。在光刻 過程中,需在硅片上涂一層光刻膠,經紫外線曝光后,光刻膠的化學性質發生變化,通過顯影后,被曝光的光刻膠將被去除,電路圖形由掩膜版轉移到光刻膠上,再經過刻蝕工藝,實現電路圖形由光刻膠轉移到硅片上。
光刻膠是光刻工藝較重要的耗材,光刻膠的質量對光刻精度至關重要。光刻膠是指通過紫外光、準分子激 光、電子束、離子束、X 射線等光源的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕刻材料。由于光刻膠具有光化學 敏感性和防腐蝕的保護作用,因此經過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將微細電路圖形從掩膜版轉移到硅片。雖然光刻膠制造成本低,但是技術壁壘高,不可替代,難以保存。
光刻過程示意圖
光刻膠按照應用場景不同可分為半導體光刻膠、LCD 光刻膠、PCB 光刻膠。光刻膠處于半導體產業鏈的 材料環節,上游為基礎化工材料和精細化學品行業,中游為光刻膠制備環節,下游為半導體制造,較后市場是 電子產品應用終端。
光刻膠的種類:
光刻膠的主要成分有光刻膠樹脂、感光劑、溶劑和添加劑。光刻膠樹脂是一種惰性的聚合物基質,是用來 將其它材料聚合在一起的粘合劑;光刻膠的粘附性、膠膜厚度等特性都是由樹脂決定的。感光劑是光刻膠的核 心部分,它對光形式的輻射能,特別是在紫外區光的輻射能會發生反應;曝光時間、光源所發射光線的強度都 和感光劑的特性直接相關。溶劑是光刻膠中容量較大的成分;因為感光劑和添加劑都是固態物質,為了將他們 均勻地涂覆,要將它們加入溶劑進行溶解,形成液態物質,且使之具有良好的流動性,可以通過旋轉方式涂布 在晶圓表面。添加劑可以用以改變光刻膠的某些特性,如可以通過添加染色劑來改善光刻膠,使其發生反射。
光刻膠的品種多種多樣,基于感光樹脂的化學結構,按技術可分為光聚合型、光分解型、光交聯型三種。另外,正性和負性光刻膠是光刻膠的兩個重要品類,光照后形成可溶物質的為正性膠,形成不可溶物質的為負 性膠。由于性能較優,正性光刻膠應用更廣,但由于光刻膠需求量大,負性膠仍有一定的應用市場。
基礎產品供應;
產品名稱 cas
1-丙烯酸金剛烷酯 121601-93-2
1-金剛烷基甲基丙烯酸酯 16887-36-8
丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-基酯 7398-56-3
4-乙酰氧基苯乙烯 2628-16-2
1,3-金剛烷二醇單丙烯酸酯 216581-76-9
2-甲基-2-金剛烷醇丙烯酸酯 249562-06-9
2-乙基-2-金剛烷基丙烯酸酯 303186-14-3
1,3-金剛烷二醇二丙烯酸酯 81665-82-9
2-氧代六氫-2H-3,5-亞甲基環戊二烯并[b]呋喃-6-基甲基丙烯酸酯 254900-07-7
甲基丙烯酸三環[5.2.1.02,6]癸-8-基酯[ 34759-34-7
2-異丙基-2-金剛烷丙烯酸甲酯 297156-50-4
2-異丙基-2-金剛烷醇丙烯酸酯 251564-67-7
gamma-丁內酯-3-基異丁烯酸酯 130224-95-2
N-異丙基甲基丙烯酰胺 13749-61-6
(9H-芴-9,9-二基)雙(亞甲基)二丙烯酸酯 583036-99-1
(5-氧代四氫呋喃-2-基)甲基丙烯酸甲酯 156938-09-9
1-乙基環戊基甲基丙烯酸酯 266308-58-1
1-異丙基-1-環己醇甲基丙烯酸酯 811440-77-4
2-甲基-2-丙烯酸4-羥基苯基酯 31480-93-0
n-butyl2-(bromomethyl)prop-2-enoate 170216-64-5
2-(溴甲基)丙烯酸甲酯 4224-69-5
甲基丙烯酸-9-蒽甲酯 31645-35-9
2-oxo-2-((2-oxohexahydro-2H-3,5-methanocyclopenta[b]furan-6-yl)oxy)ethylmethacrylate[ 347886-81-1
2-乙烯基萘 827-54-3
2-環己基丙烷-2-基甲基丙烯酸酯 186585-56-8
2-甲基-丙烯酸2-氧代-四氫-呋喃-3-基酯 195000-66-9
丙烯酸甲基環戊酯 178889-49-1
丙烯酸1-乙基環戊酯 326925-69-3
2-氧代四氫呋喃-3-基丙烯酸酯 328249-37-2
4-叔丁氧基苯乙烯 95418-58-9
4-(4-(丙烯酰氧基)丁氧基)苯甲酸 69260-42-0
甲基丙烯酸-2,2,3,3,4,4,4-七氟代-丁酯 13695-31-3
3-(4-vinylphenyloxy)-1-propene 16215-47-7
acetic acid,4-ethenylbenzene-1,2-diol 57142-64-0
1-(1-乙氧基乙氧基)-4-乙烯基苯 157057-20-0
1-甲基環己基甲基丙烯酸酯 76392-14-8
2-氧代-2-(2,2,3,3,3-五氟丙氧基)乙基甲基丙烯酸酯 1176273-16-7
2,5-二甲基己烷-2,5-二基雙(2-甲基丙烯酸酯) 131787-39-8
1-甲基環戊基甲基丙烯酸酯 178889-45-7
1-乙基環己基甲基丙烯酸酯 274248-09-8
4-異丙基苯酚 4286-23-1
(2-oxo-1,3-dioxolan-4-yl)methyl 2-methylprop-2-enoate 13818-44-5
乙酸-2-乙烯基苯基酯 63600-35-1
2-(金剛烷-1-基)丁-2-基甲基丙烯酸酯 325991-26-2
1-ethoxyethyl 2-methylprop-2-enoate 51920-52-6
甲基丙烯酸四氫呋喃-2-基酯 15895-80-4
oxan-2-yl 2-methylprop-2-enoate 52858-59-0
6-methacryloyl-6-azabicyclo[3.2.0]heptan-7-one 1267624-16-7
3-叔丁氧基苯乙烯 105612-79-1
2-丙烯酸3-(二乙氧基甲基甲硅烷基)丙基酯 13732-00-8
2,3-二羥基丙烯酸丙酯 10095-20-2
2-[(4-乙烯基苯氧基)甲基]環氧乙烷 2653-39-6
3,5-二乙酰氧基苯乙烯 155222-48-3
2-(2,2-二氟乙烯基)雙環[2.2.1]庚烷 123455-94-7
二苯基碘酰氯 1483-72-3
雙[4-(1,1-二甲基乙基)苯基]碘鎓與三氟甲磺酸的鹽 84563-54-2
全氟丁基磺酸三苯基锍鹽 144317-44-2
雙(4-叔丁基苯基)氯化碘鎓 5421-53-4
TBPDPS-PFBS 258872-05-8
1二(4-叔丁基苯基)碘鎓全氟代丁烷磺酸鹽 194999-85-4
(4-苯基硫代苯基)二苯基锍三氟甲磺酸 111281-12-0
N-羥基萘酰亞胺三氟甲磺酸 85342-62-7
上述產品齊岳生物均可供應!
wyf 01.26